报告摘要:  微纳米加工技术综述
光学曝光技术
光学曝光原理，光刻胶特性与工艺过程，移相掩模技术与其他光学曝光分辨率增强技术，厚胶（包括SU-8胶）曝光技术，极紫外与X射线曝光技术，灰度曝光技术，LIGA技术，光学曝光的计算机模拟技术。
电子束曝光技术
电子束曝光原理，电子束曝光系统，电子抗蚀剂工艺，电子束曝光图形设计，电子束曝光的邻近效应及其校正，电子束曝光的计算机模拟。
聚焦离子束加工技术
液态金属离子源与聚焦离子束系统，离子溅射与沉积加工原理，聚焦离子束加工技术的应用，离子束曝光与注入技术。
扫描探针加工技术
利用扫描隧道显微镜与原子力显微探针进行纳米加工的原理与工艺
图形转移与复制技术
薄膜材料与沉积技术等，化学湿法刻蚀技术等，各种纳米压印及其衍生技术等
间接纳米加工与自组装技术
各种利用低分辨率加工设备实现高分辨率加工能力的技术，可控分子与纳米粒子有序自组装技术等
微纳米加工技术的应用
介绍的应用领域包括：超大规模集成电路制造，纳米电子器件，光电子器件，高密度磁存储器件，微电子机械系统（MEMS），生物芯片技术，纳米技术