学术报告
题目: [工程师之家] 脉冲强磁场的产生及其应用
时间: 2016年04月08日 08:30
地点: 物理所M楼253会议室
报告人: 彭涛 教授
报告人简介:
1977年出生,华中科技大学教授,国家脉冲强磁场科学中心磁体系统负责人。2000年毕业于华中科技大学电气学院,获工学学士学位。2000年9月至2005年5月在华中科技大学电气学院攻读博士学位,主要从事超强脉冲磁场产生、磁体结构设计以及脉冲磁场应用研究,期间在比利时鲁汶大学联合培养一年。 2005年9月至2006年7月任华中科技大学讲师,2006年8月至2011年10月任副教授,从2011年11月起任教授。工作期间先后5次以访问学者身份前往比利时鲁汶大学从事科研合作,参与欧洲脉冲强磁场联合项目“DeNUF”部分磁体设计工作。开发的脉冲磁体分析软件被德国、法国、荷兰以及英国等多个国家的强磁场实验室采纳为磁体设计工具,是欧洲 “DeNUF”项目使用的三大工具软件之一。最近5年,在快速冷却磁体、超强脉冲磁场、平顶脉冲磁场等方面取得一系列进展。
报告内容摘要:
作为一种极端实验条件,脉冲强磁场在现代科学研究中发挥着越来越重要的作用。而科学研究的飞速发展,对脉冲磁场性能,特别是在磁场强度、磁场波形、磁场空间分布等方面提出了更高的要求。本报告首先介绍目前产生强磁场的几种方法,然后重点介绍脉冲磁场产生的关键技术、高性能脉冲磁体研制所面临的困难以及国内外研究现状,同时简要介绍我们利用脉冲磁场技术进行永磁设备整体充磁和电磁成形方面的研究进展,最后简要介绍武汉国家脉冲强磁场科学中心开放运行的情况。
联系人:陆俊(82649271)
报告邀请人:工程师之家召集人小组(http://tech.iphy.ac.cn/)